ГЛУБОКОЕ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЕ МАРКИРОВАНИЕ ИЗДЕЛИЙ ДВУМЕРНЫМИ ШТРИХОВЫМИ КОДАМИ

Международный стандарт системы менеджмента качества ISO 9001:2000 требует проводить идентификацию каждого изделия на всех технологических циклах производства. Штриховые линейные коды, которые изначально рассчитывались на высокий контраст и качество изображения, наносятся на бумажную основу или на этикетки, что может привести в дальнейшем к потере информации. Такая маркировка позволяет нанести не более 30 цифр, что не всегда позволяет закодировать нужный объём информации. Всё это привело к появлению двумерной символики, которая позволяет кодировать в сотни раз больше информации, предназначена для непосредственного нанесения на изделия, имеет большую защищённость информации за счёт уплотнения, дублирования и системы исправления ошибок Рида-Соломона.
К преимуществам матричной маркировки, например, Data Matrix, относится возможность электронного считывания под любым углом; возможность считывания при 20 %-ой контрастности знаков маркировки по отношению к поверхности (для линейного штрихового кода требуется не менее 80 - 90 % контраста); имеется возможность масштабирования и дистанционного считывания. В квадратной маркировке размером несколько миллиметров может быть нанесено до 2335 буквенно-цифровых знаков, фактически это портативная база данных.
Одним из эффективных методов маркирования токопроводящих поверхностей является электрохимическое маркирование (ЭХМ). Типичные применяемые установки ЭХМ используют сплошной электрод-инструмент (ЭИ) и трафарет с отверстиями в виде маркируемого рисунка, при этом между ЭИ и маркируемой деталью нет протока электролита, процесс осуществляется только за счёт смачивания электролитом пористой прокладкой. Это накладывает ограничения на глубину маркирования. Кроме того, такие трафареты позволяют нанести ограниченное число маркировок, требуют для печати специальных материалов и принтеров, либо применения фотолитографических методов.
Реализовать преимущества ЭХМ в полной мере позволяют такие установки, в которых толщина межэлектродного зазора (МЭЗ) минимальна, одинакова по всей поверхности и обеспечивает условия для равномерного протекания электролита. Рабочая поверхность разработанного нами ЭИ для ЭХМ матричной символикой размером 10х10 элементов представляет собой плоскую матрицу, образованную торцами изолированных медных проводников диаметром 0,35 мм, расположенных в форме растровой решетки. Толщина МЭЗ составляет 0,1 - 0,2 мм, электролит готовится на основе хлористого или азотнокислого натрия.
Нами разработан также способ коммутаций секций ЭИ с использованием фотоэлементов, не содержащий механических переключателей, а также без использования сложных программирующих устройств. Каждая секция ЭИ через усилитель подсоединялась к фотосопротивлению на плоской панели, и расположение фотосопротивлений соответствовало расположению соответствующих секций ЭИ. Обработка осуществлялась постоянным или переменным (для чернения) током. Для этого на матрицу фотоэлементов через фотоплёнку или фотошаблон проецировалось световое изображение, в соответствии с которым осуществлялась коммутация и прохождение тока по секциям ЭИ. Глубина знаков при времени обработки 40 с составляла 0,2 мм, что существенно выше трафаретных методов ЭХМ.
Статья в формате PDF
124 KB...
09 03 2026 17:19:18
Статья в формате PDF
103 KB...
08 03 2026 4:10:44
Статья в формате PDF
301 KB...
07 03 2026 17:10:40
Статья в формате PDF
127 KB...
06 03 2026 2:16:10
Статья в формате PDF
143 KB...
03 03 2026 19:54:36
Статья в формате PDF
300 KB...
02 03 2026 3:37:51
Статья в формате PDF
317 KB...
01 03 2026 10:22:23
Статья в формате PDF
135 KB...
28 02 2026 5:21:43
Статья в формате PDF
113 KB...
27 02 2026 10:26:14
Статья в формате PDF
106 KB...
26 02 2026 23:10:33
24 02 2026 9:47:11
Статья в формате PDF
303 KB...
23 02 2026 17:36:23
Статья в формате PDF
111 KB...
21 02 2026 1:59:28
Статья в формате PDF
103 KB...
20 02 2026 5:47:45
Статья в формате PDF
132 KB...
19 02 2026 10:22:38
Статья в формате PDF
284 KB...
18 02 2026 16:32:14
Статья в формате PDF 108 KB...
17 02 2026 8:34:37
Статья в формате PDF
123 KB...
16 02 2026 9:24:37
Статья в формате PDF
123 KB...
15 02 2026 15:13:18
Статья в формате PDF
138 KB...
14 02 2026 19:19:38
В результате проведенного исследования установлено, что одними из ведущих патогенетических факторов течения пoлoвых инфекций являются нарушения в деятельности иммунной системы. В процессе исследования выявлены изменения в клеточном иммунитете, свидетельствующие о наличии супрессии Т - клеточного звена и наличии диссиммуноглобулинемии. Выявлено, что наиболее выраженные изменения в системе клеточного и гумopaльного иммунитета обнаружены у больных с хроническим течением инфекционного процесса.
...
13 02 2026 12:10:27
Статья в формате PDF
102 KB...
12 02 2026 8:41:12
Статья в формате PDF
125 KB...
11 02 2026 16:14:31
Статья в формате PDF
119 KB...
10 02 2026 22:45:16
Статья в формате PDF
245 KB...
09 02 2026 3:54:54
Статья в формате PDF
126 KB...
08 02 2026 1:13:21
Статья в формате PDF
120 KB...
07 02 2026 18:50:41
Статья в формате PDF
294 KB...
06 02 2026 0:43:46
Статья в формате PDF
234 KB...
05 02 2026 1:11:54
04 02 2026 0:14:19
Статья в формате PDF
226 KB...
03 02 2026 17:19:40
Статья в формате PDF
200 KB...
02 02 2026 1:32:51
Статья в формате PDF
414 KB...
01 02 2026 9:12:41
Статья в формате PDF
114 KB...
31 01 2026 22:23:23
Дана оценка современным физико-химическим методам исследования для контроля, сертификации и гигиенической оценке безопасности нономатариалов. Разработаны методики определения ряда тяжелых металлов в биологических средах, которые утверждены МЗ РФ и Роспотребнадзором РФ и могут быть использованы для оценки безопасности наноматериалов.
...
30 01 2026 15:57:41
Статья в формате PDF
117 KB...
29 01 2026 16:58:51
Еще:
Поддержать себя -1 :: Поддержать себя -2 :: Поддержать себя -3 :: Поддержать себя -4 :: Поддержать себя -5 :: Поддержать себя -6 :: Поддержать себя -7 :: Поддержать себя -8 :: Поддержать себя -9 :: Поддержать себя -10 :: Поддержать себя -11 :: Поддержать себя -12 :: Поддержать себя -13 :: Поддержать себя -14 :: Поддержать себя -15 :: Поддержать себя -16 :: Поддержать себя -17 :: Поддержать себя -18 :: Поддержать себя -19 :: Поддержать себя -20 :: Поддержать себя -21 :: Поддержать себя -22 :: Поддержать себя -23 :: Поддержать себя -24 :: Поддержать себя -25 :: Поддержать себя -26 :: Поддержать себя -27 :: Поддержать себя -28 :: Поддержать себя -29 :: Поддержать себя -30 :: Поддержать себя -31 :: Поддержать себя -32 :: Поддержать себя -33 :: Поддержать себя -34 :: Поддержать себя -35 :: Поддержать себя -36 :: Поддержать себя -37 :: Поддержать себя -38 ::