ГЛУБОКОЕ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЕ МАРКИРОВАНИЕ ИЗДЕЛИЙ ДВУМЕРНЫМИ ШТРИХОВЫМИ КОДАМИ
Международный стандарт системы менеджмента качества ISO 9001:2000 требует проводить идентификацию каждого изделия на всех технологических циклах производства. Штриховые линейные коды, которые изначально рассчитывались на высокий контраст и качество изображения, наносятся на бумажную основу или на этикетки, что может привести в дальнейшем к потере информации. Такая маркировка позволяет нанести не более 30 цифр, что не всегда позволяет закодировать нужный объём информации. Всё это привело к появлению двумерной символики, которая позволяет кодировать в сотни раз больше информации, предназначена для непосредственного нанесения на изделия, имеет большую защищённость информации за счёт уплотнения, дублирования и системы исправления ошибок Рида-Соломона.
К преимуществам матричной маркировки, например, Data Matrix, относится возможность электронного считывания под любым углом; возможность считывания при 20 %-ой контрастности знаков маркировки по отношению к поверхности (для линейного штрихового кода требуется не менее 80 - 90 % контраста); имеется возможность масштабирования и дистанционного считывания. В квадратной маркировке размером несколько миллиметров может быть нанесено до 2335 буквенно-цифровых знаков, фактически это портативная база данных.
Одним из эффективных методов маркирования токопроводящих поверхностей является электрохимическое маркирование (ЭХМ). Типичные применяемые установки ЭХМ используют сплошной электрод-инструмент (ЭИ) и трафарет с отверстиями в виде маркируемого рисунка, при этом между ЭИ и маркируемой деталью нет протока электролита, процесс осуществляется только за счёт смачивания электролитом пористой прокладкой. Это накладывает ограничения на глубину маркирования. Кроме того, такие трафареты позволяют нанести ограниченное число маркировок, требуют для печати специальных материалов и принтеров, либо применения фотолитографических методов.
Реализовать преимущества ЭХМ в полной мере позволяют такие установки, в которых толщина межэлектродного зазора (МЭЗ) минимальна, одинакова по всей поверхности и обеспечивает условия для равномерного протекания электролита. Рабочая поверхность разработанного нами ЭИ для ЭХМ матричной символикой размером 10х10 элементов представляет собой плоскую матрицу, образованную торцами изолированных медных проводников диаметром 0,35 мм, расположенных в форме растровой решетки. Толщина МЭЗ составляет 0,1 - 0,2 мм, электролит готовится на основе хлористого или азотнокислого натрия.
Нами разработан также способ коммутаций секций ЭИ с использованием фотоэлементов, не содержащий механических переключателей, а также без использования сложных программирующих устройств. Каждая секция ЭИ через усилитель подсоединялась к фотосопротивлению на плоской панели, и расположение фотосопротивлений соответствовало расположению соответствующих секций ЭИ. Обработка осуществлялась постоянным или переменным (для чернения) током. Для этого на матрицу фотоэлементов через фотоплёнку или фотошаблон проецировалось световое изображение, в соответствии с которым осуществлялась коммутация и прохождение тока по секциям ЭИ. Глубина знаков при времени обработки 40 с составляла 0,2 мм, что существенно выше трафаретных методов ЭХМ.
Статья в формате PDF
131 KB...
09 07 2026 11:26:45
Статья в формате PDF
190 KB...
08 07 2026 21:25:12
Статья в формате PDF
125 KB...
07 07 2026 14:56:54
Статья в формате PDF
502 KB...
06 07 2026 7:53:48
Статья в формате PDF
290 KB...
05 07 2026 15:26:57
Статья в формате PDF
157 KB...
04 07 2026 4:17:22
Статья в формате PDF
288 KB...
03 07 2026 21:30:33
Статья в формате PDF
106 KB...
01 07 2026 10:43:49
Статья в формате PDF
134 KB...
30 06 2026 14:15:31
Статья в формате PDF
136 KB...
29 06 2026 0:45:50
Статья в формате PDF
102 KB...
28 06 2026 13:47:31
Статья в формате PDF
127 KB...
27 06 2026 18:58:23
Статья в формате PDF
206 KB...
26 06 2026 17:45:17
Статья в формате PDF
332 KB...
25 06 2026 17:51:45
Статья в формате PDF
101 KB...
24 06 2026 1:45:14
Статья в формате PDF
167 KB...
23 06 2026 1:19:44
В лаборатории биохимии ФГУН «РНЦ «ВТО» им. акад. Г. А. Илизарова Росздрава» разработаны имплантационные материалы на основе кальцийфосфатных соединений, выделенных из костной ткани крупного рогатого скота. Технология получения материалов для имплантации включает в себя деминерализацию костной ткани с применением хлороводородной кислоты, осаждение из раствора кальцийфосфатных соединений, их очистку, высушивание и измельчение.
Изучен качественный и количественный состав полученных материалов с применением сканирующей электронной микроскопии, инфpaкрасной спектроскопии и метода рентгеновского электронно-зондового микроанализа. Установлено, что материалы представляют собой порошкообразные смеси с включениями гранул диаметром от 100 до 2000 мкм. В состав материалов входят остеотропные элементы кальций, фосфор, магний, сера, которые однородно распределены в материале.
...
22 06 2026 10:27:35
Статья в формате PDF
135 KB...
21 06 2026 6:46:25
Статья в формате PDF
114 KB...
18 06 2026 19:41:25
Статья в формате PDF
104 KB...
17 06 2026 16:45:50
Статья в формате PDF
104 KB...
16 06 2026 20:46:52
Статья в формате PDF
105 KB...
15 06 2026 14:38:35
Статья в формате PDF
111 KB...
14 06 2026 21:20:24
Статья в формате PDF
142 KB...
12 06 2026 21:53:34
Статья в формате PDF
113 KB...
11 06 2026 15:18:30
Статья в формате PDF
102 KB...
10 06 2026 3:33:30
Статья в формате PDF
265 KB...
09 06 2026 19:33:50
Статья в формате PDF
98 KB...
08 06 2026 15:10:23
Статья в формате PDF
155 KB...
07 06 2026 15:55:48
Статья в формате PDF
109 KB...
05 06 2026 11:22:14
Статья в формате PDF
113 KB...
04 06 2026 2:37:51
В костном мозге больных гематологическими заболеваниями выявлено значительное количество эритроклазических кластеров, хаpaктеризующихся экзоцитарным лизисом входящих в них эритроцитов кластерообразующими миелокариоцитами разных видов, включая эритрокариоциты. Содержание эритроклазических кластеров с происходящим в них экзоцитарным лизисом эритроцитов варьировало от 21% от всех эритроклазических кластеров в костном мозге больных апластической анемией до 81% в костном мозге больных в активной фазе острого лимфобластного лейкоза, что свидетельствует об интенсивности лизиса в них эритроцитов. С наибольшей интенсивностью лизис эритроцитов происходил в костном мозге больных в активную фазу острого лимфобластного лейкоза и больных хроническим миелолейкозом. При этом в момент исследования подвергались деструкции в эритроклазических кластеров десятки тысяч эритроцитов в мкл костного мозга. Эти данные подтверждают представление о костном мозге как органе гемолиза.
...
03 06 2026 2:46:32
Статья в формате PDF
123 KB...
02 06 2026 9:38:40
Статья в формате PDF
108 KB...
01 06 2026 18:20:28
Статья в формате PDF
115 KB...
31 05 2026 18:25:28
Еще:
Поддержать себя -1 :: Поддержать себя -2 :: Поддержать себя -3 :: Поддержать себя -4 :: Поддержать себя -5 :: Поддержать себя -6 :: Поддержать себя -7 :: Поддержать себя -8 :: Поддержать себя -9 :: Поддержать себя -10 :: Поддержать себя -11 :: Поддержать себя -12 :: Поддержать себя -13 :: Поддержать себя -14 :: Поддержать себя -15 :: Поддержать себя -16 :: Поддержать себя -17 :: Поддержать себя -18 :: Поддержать себя -19 :: Поддержать себя -20 :: Поддержать себя -21 :: Поддержать себя -22 :: Поддержать себя -23 :: Поддержать себя -24 :: Поддержать себя -25 :: Поддержать себя -26 :: Поддержать себя -27 :: Поддержать себя -28 :: Поддержать себя -29 :: Поддержать себя -30 :: Поддержать себя -31 :: Поддержать себя -32 :: Поддержать себя -33 :: Поддержать себя -34 :: Поддержать себя -35 :: Поддержать себя -36 :: Поддержать себя -37 :: Поддержать себя -38 ::
